看完本篇你就知道什么是RTP快速退火爐了
更新時間：2021-07-23 點擊次數(shù)：8852
RTP快速退火爐近年來得到越來越廣泛的應用。可用于硅及其他化合物材料離子注入后的退火，硅化物形成，歐姆接觸制備以及快速氧化，快速氮化等方面。
該設備具有很好的長時間工作穩(wěn)定性以及快速升降溫，慢速升降溫功能，采用三回路閉環(huán)溫度控制，精確的溫度控制部件可適用于特殊工藝要求，工藝重復性高，也可用于鐵電膜的制備以及各種半導體材料CVD的熱處理。
RTP快速退火爐主要用于：快速燒結、快速退火等工藝。具有：溫度均勻、控制穩(wěn)定等特點，觸摸屏操作方式(設備小巧，節(jié)約空間)。
快速熱處理退火爐簡稱 RTP(Rapid Thermal Processing Furnace)，由我公司借鑒了制造工藝，在管式爐的基礎上自主研發(fā)而成。
這款不但擁有很快的升溫速率100℃/S，而且降溫速率也有了質的飛躍，降溫速率100℃/S。我們的工程師們巧妙的設計工藝使得冷卻氣體直接對著樣品直吹，以至于達到如此快的降溫速度。真正的極速升溫和極速降溫!
此款設備采用了成儀自主研發(fā)的智能AIO(All In One)控制系統(tǒng)，實現(xiàn)了爐膛自動左右移動，爐膛在左側加熱到設定溫度后，直接移動到右側樣品區(qū)域，實現(xiàn)樣品快速升溫，樣品加熱到設定溫度和時間后，爐膛自動移開樣品加熱區(qū)，實現(xiàn)樣品的快速降溫。
成儀AIO智能控制系統(tǒng)不但實現(xiàn)了真空系統(tǒng)開啟、保護氣氛通斷以及冷卻氣體通斷的自動協(xié)調控制，而且還能自動平衡爐管內的壓力大小，真正實現(xiàn)了操作方便，而且安全可靠。
功能舉例：樣品加熱到1000℃后，爐膛自動移開加熱區(qū)，冷卻氣體自動打開直吹樣品表面實現(xiàn)極速降溫，樣品溫度降到70℃時自動關閉冷卻氣體。
然后爐膛移動到加熱區(qū)繼續(xù)加熱，如此往復，往復次數(shù)可用戶自定義。真空系統(tǒng)可根據(jù)用戶設定溫度自動開啟和關閉。
